Ranurado de placas cerámicas
Ranurado de placas cerámicas: Mecanizado láser de precisión para componentes de alto rendimiento
Ranurado de placas cerámicas: un proceso de mecanizado láser de alta precisión diseñado para crear ranuras precisas y patrones complejos en placas cerámicas para aplicaciones médicas y electrónicas. Utilizando tecnología avanzada de láser CO2, este proceso garantiza cortes limpios, sin rebabas, con un impacto térmico mínimo, preservando la integridad estructural de los materiales cerámicos frágiles. Elaborados con cerámicas de alto rendimiento como alúmina (Al2O3), nitruro de aluminio (AlN) y nitruro de silicio (Si3N4), los componentes resultantes ofrecen una conductividad térmica excepcional, aislamiento eléctrico y resistencia mecánica, lo que los hace ideales para sustratos microelectrónicos, implantes médicos y electrónica de alta potencia. El diseño ranurado por láser permite geometrías complejas y un ranurado preciso, optimizando el rendimiento en entornos exigentes. Adaptado para aplicaciones de alta precisión, este proceso cumple con los estrictos estándares de la atención sanitaria moderna y la fabricación de electrónica.
Características principales:
- Ranurado Ultra-Preciso: Logra una precisión de ranurado de ≤±10μm para patrones intrincados y diseños de componentes precisos.
- Bordes sin rebabas: Produce ranuras limpias y suaves para una mayor limpieza técnica y fiabilidad.
- Alta resistencia del material: Cerámicas como Al2O3, AlN y Si3N4 proporcionan propiedades mecánicas y térmicas superiores.
- Impacto térmico mínimo: La tecnología láser CO2 minimiza las zonas afectadas por el calor, preservando la integridad del material.
- Versatilidad del material: Compatible con placas cerámicas de alúmina, nitruro de aluminio y nitruro de silicio.
- Procesamiento eficiente: Sistema de alimentación automatizado garantiza alta eficiencia y calidad consistente en la producción por lotes.
Certificados y estándares:
El proceso de ranurado de placas cerámicas está certificado bajo la norma ISO 9001, asegurando una gestión de calidad robusta en todas las etapas de producción. También cumple con la norma IATF 16949, garantizando un control de calidad excepcional y trazabilidad para aplicaciones críticas en las industrias electrónica y médica.
Material Primario – Cerámicas de Alta Calidad:
- Alúmina
- Zirconia
- Nitruro de silicio, etc.
Cerámicas de alta calidad, como alúmina (Al2O3), nitruro de aluminio (AlN) y nitruro de silicio (Si3N4), ofrecen una conductividad térmica excepcional, aislamiento eléctrico y resistencia mecánica. Estos materiales son ideales para aplicaciones de precisión en implantes médicos, microelectrónica y electrónica de alta potencia, garantizando durabilidad y rendimiento en entornos exigentes.
Materiales compatibles:
- Zafiro. Resistencia excepcional a los arañazos, alta estabilidad térmica y transparencia para aplicaciones ópticas y médicas.
- Silicio. Excelentes propiedades eléctricas, alta conductividad térmica y compatibilidad con procesos de microfabricación.
- Arseniuro de galio. Movilidad de electrones superior, alta eficiencia en LEDs y células solares, y excelente rendimiento en alta frecuencia.
- Materiales frágiles. Alta dureza, estabilidad térmica y aislamiento eléctrico para componentes de precisión en entornos exigentes.
- Sustratos Microelectrónicos: Produce placas cerámicas ranuradas con precisión para circuitos electrónicos de alta densidad.
- Implantes Médicos: Soporta el ranurado de componentes cerámicos para implantes y dispositivos biocompatibles.
- Electrónica de alta potencia: Utilizado en sustratos para electrónica de potencia y aplicaciones de semiconductores.
- Componentes Optoelectrónicos: Facilita el ranurado para encapsulados de LED y soportes de dispositivos ópticos.
- Fabricación de Dispositivos Médicos: Incorporado en la producción de componentes cerámicos avanzados.
- Material: Cerámica (por ejemplo, alúmina (Al2O3), nitruro de aluminio (AlN), nitruro de silicio (Si3N4))
- Espesor: 0,3–2,0 mm
- Ancho de la Ranura: 15–30 μm
- Precisión de Ranurado: ≤±10 μm
- Rugosidad de la superficie: Ra <0,2 µm
- Proceso de Fabricación: Ranurado con láser CO2 con alimentación automatizada
- Temperatura de funcionamiento: -20°C a 500°C, adecuado para aplicaciones de alta temperatura
- Degradación: No degradable, diseñado para estabilidad a largo plazo
